甘露糖-金剛烷的具體合成路線如下：

合成路線

1. 保護甘露糖的羥基：通過保護基P保護甘露糖的5個羥基，保護基P為-COR1基團，其中R1表示芳基或(C1-C6)烷基，優選苯基。

2. 偶聯反應：將步驟1獲得的受保護的甘露糖與下式(II)化合物偶聯，反應在堿、烷基鹵化鋁和任選的路易斯酸的存在下進行，優選地在正丁基鋰、二乙基氯化鋁和氯化鋁的存在下進行。具體可分為三個子步驟：

• 用堿將式(II)化合物去質子化。

• 加入烷基鹵化鋁，優選二乙基氯化鋁。

• 在路易斯酸，優選氯化鋁的存在下，將步驟1獲得的產物與步驟2的產物偶聯。

3. 脫保護和偶聯：

• 任選地將在步驟2后獲得的化合物的末端炔脫保護，以獲得其中R＝H的式(I)化合物。

• 將在步驟2獲得的化合物或當適用時在步驟3a獲得的化合物與下式(IV)化合物進行薗頭偶聯，其中X為鹵素原子。

• 任選地將由基團P保護的羥基脫保護，以獲得其中R"＝H的式(III)化合物。

• 回收在步驟3c獲得的式(III)化合物或當適用時在步驟3d獲得的式(III)化合物。

注意事項

• 反應過程中需嚴格控制反應條件，如溫度、溶劑、催化劑等，以確保反應的順利進行和產物的純度。

• 具體的合成路線可能因起始原料和反應條件的不同而有所差異，需要根據實際情況進行調整。

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